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简介：THEIA是一款高性能，稳定，灵活，可靠且安全的研发型原子层沉积系统，兼具工业生产解决方案的优势。THEIA超快平面原子层沉积系统可进行升级改造，从而满足科学研究的各种需求，并实现从“研发”到“生...

简介：PANDORA是高度集成的台式原子层沉积系统，可摆放在实验室的任意角落，采用旋转式反应腔实现对粉末材料的分散，有更高的兼容性。对于平面样品，则可快速插入平面反应台，实现样品的切换。PANDORA多...

简介：P系列粉末原子层沉积系统是ForgeNano针对工业包覆研发的粉末ALD负载系统，可实现kg级粉末批量包覆，是工业生产前理想的研发工具。

简介：SAL3000原子层沉积系统是一款适用于研究型的ALD原子层沉积设备，该设备多可搭载6路前驱体，适用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的镀膜。该设备在保持了优异的膜厚分布外，还可进一步通过改变镀...

简介：SAL-3000PlusALD原子层沉积系统是一款可拓展型的ALD原子层沉积系统，可通过连接STR2000转移单元，与退火设备SAN2000Plus，镀膜设备，SVE2000Plus蒸镀设备SSP...

简介：SAL1000系列桌面型ALD原子层沉积系统是由日本AGUS生产的桌面型ALD原子层沉积设备，可搭载2路前驱体。适用于4英寸（φ100mm）基片的沉积，并可搭载粉末样品架和手套箱。

简介：台式三维原子层沉积系统-ALD是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器，化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法，是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此，它是一种真正的“...

简介：该PECVD等离子体增强化学气相沉积设备系统可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。可选用射频（RF）、空阴*密度等离子体（HCD）源、感应耦合等离子体（I...

简介：我们提供了一套完整的金属有机化学气相沉积系统（MOCVD），主要产品包括台式研发型、中试型和生产型。其反应器的设计可以根据工艺的需要很容易提升到满足大直径晶片生产的需要。我们也能为客户设计以满足客...

简介：原子层沉积系统生长的金属氧化物薄膜可用于栅极电介质、电致发光显示器绝缘体、电容器电介质和MEMS器件，生长的金属氮化物薄膜适合于扩散势垒。