1200℃-1700℃真空烧结炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。

一、1200℃-1700℃真空烧结炉产品描述

真空炉产品主要针对实验室的日常应用开发，优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统，可保证实验数据的可靠性；产品采用高纯氧化铝材料作为炉膛材料，选用质优的硅钼棒发热元件作为发热体，温度控制器采用微电脑PID控制模块，可实现准确的控温和恒温要求。可应用于金属材料、石墨材料、锂电材料、晶体材料等新材料领域；双炉门结构设计，内炉门隔热，外炉门法兰密封，优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统可保证长期的可靠性。

二、1200℃-1700℃真空烧结炉产品特点

1、 炉膛材料选用进口轻质高纯氧化铝陶瓷材料，硬度高、高温不掉粉，高温烧结无挥发，符合国际行业标准

2、 发热体采用优质硅钼棒，可承受负荷大，稳定且使用寿命长；硅钼棒均匀的排列在炉膛两侧，温场均匀性好

3、 升温速度快，温度均匀性好，80分钟可升到1600℃

4、 控温精度高，冲温小，具有温度补偿和温度校正功能，控温精度为±1℃

5、 采用智能PID控温仪表，具有程序功能，可设定升温曲线，可编30个程序段

6、 一体式结构，双层外壳，水冷结构，出色的外观设计，美观、大方

7、 电子元器件均采用德力西产品，带有漏电保护功能

8、 本机对工作过程中的超温会发出报警信号，并自动完成保护动作

9、当仪表程序设定完成后，只要按下运行按钮，接下来的工作会自动完成

10、可选配大屏幕无纸记录仪或者RS232通讯接口，实现对升温曲线的实时记录，并带有存储卡可对实验数据进行分析和打印