ELLIP-SR-Ⅰ型产品是集光机电于一体高精度高稳定椭圆偏振光谱仪。从仪器状态调整、参数设置、数据采集一直到数据处理，均通过计算机自动完成，可工作于从紫外至近红外的宽广光谱区，波长连续可调，入射角度从20度到90度内手动可调。

高精度光谱椭偏仪 ELLIP-SR-Ⅰ型主要适用于科研院所的信息光电子功能薄膜、体材料的光学性质和结构特性研究，可被研究材料种类包括：金属和合金、元素和化合物半导体、绝缘体、超导体、磁性和磁光材料、有机材料、太阳能薄膜、多层薄膜材料、液体材料等。在测量中，可按研究条件同时对入射角和波长进行自动精细扫描，从而增加研究的灵活性，便于用户获得更多的光谱信息进行数据分析，提高研究的质量和可靠性，并实现无接触无损伤测量。该系列光谱仪的性能指标达均已达到同类技术的*水平，产品国内及海外市场。

高精度光谱椭偏仪 ELLIP-SR-Ⅰ型技术参数：

波长范围：250-830nm，  250-1100nm，  250-1700nm ， 250-2100nm 。

光源：氙灯

波长分辨率：1.0nm

入射角范围： 20-90度（每5度间隔）

样品台：Ø110 mm （可配三维样品台）

入射角精度：0.001度 

测量模式：反射式光谱值 

测量方式：自动完成AC信号测量

实测光学常数种类：复折射率（ n, k ）；

反射率R

膜厚精度：±0.1nm 

光学常数精度优于0.5％

椭偏参数精度：D±0.02度；Y±0.01度 

选配：*微光斑技术（国内*），高精度XY平台，特制CCD成像系统。

主要特点

WINXP友好操作界面

实测光学常数种类：复折射率、复介电函数、吸收系数、反射率。

主要用途 

1.各种功能材料的光学常数测量和光谱学特性分析；

2.测量薄膜材料的折射率和厚度； 测量对象包括：金属、半导体、超导体、

绝缘体、非晶体、超晶格、磁性材料、光电材料、非线性材料；测量光学常数：复折射率的实虚部、复介电常数的实虚部、吸收系数a、反射率R。

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